发明名称 |
磁记录介质及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种使磁记录介质外周部的润滑层膜厚均匀化、使磁头上浮稳定化的方法。该方法用于制造具有润滑层的磁记录介质,其特征在于,在保护层上涂布液体润滑剂后,一边使磁记录介质(20)旋转,一边利用带按压器件(16),将含有溶剂的加工带(11)同时按压在所述磁记录介质的端面和数据面的外周部,擦去所述液体润滑剂。非磁性基板的厚度优选为0.635mm以下。另外,涂布液体润滑剂后,进一步施加加热处理,再利用加工带进行擦去。 |
申请公布号 |
CN1920962B |
申请公布日期 |
2011.04.13 |
申请号 |
CN200610116000.3 |
申请日期 |
2006.08.22 |
申请人 |
富士电机电子技术株式会社 |
发明人 |
草川和大;白井信二 |
分类号 |
G11B5/725(2006.01)I;G11B5/84(2006.01)I |
主分类号 |
G11B5/725(2006.01)I |
代理机构 |
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 |
代理人 |
龙淳 |
主权项 |
一种磁记录介质的制造方法,用于制造具有非磁性基板、磁记录层、保护层和润滑层的磁记录介质,其特征在于:在该保护层上涂布液体润滑剂后,一边使所述磁记录介质旋转,一边将含有溶剂的加工带呈コ字型同时按压在所述磁记录介质的端面和数据面的外周部,擦去所述液体润滑剂,在磁记录介质垂直方向上的加工带的负荷为15g以上40g以下,在擦去所述液体润滑剂的加工后,在对所述加工带施加按压力的状态下,以该加工带成为コ字型的状态从磁记录介质拉出。 |
地址 |
日本东京都 |