处理装置和对位方法

摘要

本发明即使在具有多个处理室的情况下，也可以按照能正确地控制处理室内的基板位置的方式进行对位。在负载锁定室(30)内，设置有进行放置于缓冲器(31、32)上的基板(S)的对位的定位器(33a、33b、33c、33d)。形成矩形的基板(S)在负载锁定室(30)内由定位器(33a、33b、33c、33d)的接触块(36)在四点上被推压，进行X-Y方向的对位。该位置对应于各处理腔室内的处理位置，各处理腔室分别设定。

主权项

一种对位方法，该对位方法在处理被处理体之前，在处理装置中进行定位，其特征在于，所述处理装置具备：用于处理被处理体的处理室；向所述处理室移送被处理体的移送机构；对位机构，所述对位机构在由所述移送机构将被处理体向所述处理室移送之前，在所述处理室的外部的定位室中进行被处理体的定位；存储机构，所述存储机构将作为由所述对位机构进行的定位的基础的位置信息与所述处理室内的被处理体的处理位置相对应地进行存储；以及控制机构，所述控制机构基于存储在所述存储机构中的所述位置信息对所述对位机构进行控制，将所述位置信息存储在所述存储机构中的工序包括：将示教用被处理体搬入到所述处理室，对位于正确的处理位置的步骤；通过所述移送机构，将对位完毕的示教用被处理体以保持与所述处理室中的所述处理位置的对应关系的状态，从所述处理室向所述定位室内移送的步骤；以及基于向所述定位室内移送的示教用被处理体的位置，调节所述对位机构，作为对应于所述处理室的位置信息而存储于所述存储机构中的步骤。