硅片清洗剂的制备方法

摘要

本发明涉及一种硅片清洗剂的制备方法，其特征是，具体步骤(体积比％)，将渗透剂、非离子表面活性剂按需配置清洗剂的体积百分比0.1-5％、部分18MΩ的去离子水用负压吸入反应器内并呈涡流状态；胺碱按需配置清洗剂的质量百分比0.5-10％，用去离子水稀释后在负压涡流状态下逐渐加入反应器内；将螯合剂0.1-5％用去离子水稀释后逐渐加入反应器内；加入缓蚀剂0.1-5％用去离子水稀释后逐渐加入反应器内；在涡流状态下反应器内加入剩余量的去离子水。有益效果：只需进行一次清洗即可达到清洗要求，提高了生产效率。采用负压搅拌的方法可避免有机物、金属离子、大颗粒等有害污染物的引入。

主权项

一种硅片清洗剂的制备方法，其特征在于，具体步骤(体积比％)(1)首先将渗透剂、非离子表面活性剂按需配置清洗剂的质量百分比0.1‑5％，以及部分18MΩ的去离子水用负压吸入反应器内并呈涡流状态；(2)胺碱按需配置清洗剂的质量百分比0.5‑10％，用18MΩ的去离子水稀释后在负压涡流状态下逐渐加入反应器内；(3)将螯合剂0.1‑5％用18MΩ去离子水稀释后在负压涡流状态下逐渐加入反应器内；(4)加入缓蚀剂0.1‑5％用18MΩ去离子水稀释后在负压涡流状态下逐渐加入反应器内；(5)在涡流状态下反应器内加入余量的去离子水。