| 发明名称 | 晶片堆的清洗 | ||
| 摘要 | 本发明包括用于表面清洗沿堆叠方向布置成一堆的各个晶片或衬底的设备和方法，其中在垂直于堆叠方向的方向上向所述堆发送流体射流，并且提供在晶片堆和喷嘴之间沿堆叠方向的相对移动。 | ||
| 申请公布号 | CN102017063A | 申请公布日期 | 2011.04.13 |
| 申请号 | CN200980102316.9 | 申请日期 | 2009.01.15 |
| 申请人 | REC斯坎沃佛股份有限公司 | 发明人 | 佩尔·阿尔内·王;阿尔内·拉姆斯兰;奥勒·克里斯蒂安·特朗鲁德;埃里克·耶塔斯;本特·哈梅尔;安德烈·斯凯伊;奥拉·特朗鲁德 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;B28D5/00(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 蔡石蒙;车文 |
| 主权项 | 设置为用于表面清洗沿堆叠方向堆叠的太阳能电池晶片的设备，其包括至少一个喷嘴，所述喷嘴被设置为在垂直于所述堆叠方向的方向上向晶片堆发送流体射流，且所述设备被设置为提供在所述晶片堆和所述喷嘴之间沿所述堆叠方向的相对移动，其特征在于，所述设备包括流体容器，并且所述晶片堆被浸入到所述流体容器中的流体中。 | ||
| 地址 | 挪威波什格伦 | ||