一种高阻值金属氧化膜电阻及其制作方法

摘要

本发明涉及电子元件以及半导体技术领域，特指一种高阻值金属氧化膜电阻及其制作方法，所述高阻值金属氧化膜电阻包括一陶瓷基体、形成在所述陶瓷基体上的皮膜、位于陶瓷基体两端的铁帽以及引线，所述皮膜包括内层皮膜和外层皮膜，其中内层皮膜由靶材通过真空直流溅射形成，外层皮膜由靶材通过离子电源加射频溅射形成。本发明可制得独特的双层膜结构电阻体，外层皮膜实际上是一层致密的金属氧化膜，对内层皮膜起到很好的保护作用，避免其被进一步氧化；同时内层皮膜与外层皮膜之间形成并联关系，能使电阻器的阻值获得更大的可调节范围；因此，本发明制成的金属氧化膜电阻器性能稳定，精密度高，阻值可超过100KΩ，高达3.9兆欧。

主权项

一种高阻值金属氧化膜电阻，包括一陶瓷基体(1)、形成在所述陶瓷基体(1)上的皮膜(2)、位于陶瓷基体(1)两端的铁帽(3)以及引线(4)，其特征在于：所述皮膜(2)包括内层皮膜(21)和外层皮膜(22)，其中内层皮膜(21)由靶材通过真空直流溅射形成，外层皮膜(22)由靶材通过离子电源加射频溅射形成。