发明名称 高真空密封
摘要 本发明涉及一种用作高真空密封的经过改进的O形圈密封。标准的O形圈密封的局限性是水的渗透通过所述O形圈。特别是对于其中的部件保持在低温温度的设备例如低温电子显微镜而言,在真空中水的存在成为一个问题,由此会导致冰在所述低温部件上生长。作为解决方案常常使用双O形圈密封或金属密封。以上这两种解决方案都存在严重缺陷。本发明提出在通道内设置O形圈,在所述通道内吹干燥气体例如干燥氮气。通过这种方式没有水能够渗透通过所述O形圈,由此导致基础压力降低和冰的生长大量减少。
申请公布号 CN102011867A 申请公布日期 2011.04.13
申请号 CN201010275775.1 申请日期 2010.09.07
申请人 FEI公司 发明人 S·H·L·范登布姆;R·W·P·琼克斯;H·F·M·范登布姆;R·J·德格鲁特;P·H·T·J·乌兰
分类号 F16J15/48(2006.01)I 主分类号 F16J15/48(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 原绍辉;杨楷
主权项 一种使用密封组件以形成高真空密封的方法,所述密封组件包括:要密封连接在一起的第一部件(101)和第二部件(103),在第一部件与第二部件之间的腔室中的O形圈(110),所述O形圈密封所述第一部件和所述第二部件,和用于减少水渗透通过所述O形圈的装置,其特征在于,用于减少水渗透通过所述O形圈的装置表现为以下形式,即将O形圈在工作中不暴露在真空中或被压靠在所述第一部件或所述第二部件上的部分(114)暴露在干燥气体中。
地址 美国俄勒冈州