| 发明名称 | 具有经共轴馈送的共轴射频馈给与多区交流加热器电源输送的等离子体反应器静电卡盘 | ||
| 摘要 | 一种工件支撑座包括：具有工件支撑表面的绝缘盘；位于所述所述绝缘盘下方的导电板，绝缘盘包含多个电机构以及多个热传媒通道；以及位于所述导电板下方的轴向移位共轴射频路径组件。此共轴射频路径组件包括：中心导体、接地的外侧导体以及隔离所述中心导体与所述外侧导体的管状绝缘体，由此所述绝缘盘、所述板以及所述共轴射频路径组件组成可动组件，而所述可动组件的轴向移动是由举升伺服机构控制。多个导管轴向地延伸经过所述中心导体，且耦接至所述热传媒机构。多个电导体轴向地延伸经过所述管状绝缘体，且连接至所述电机构。 | ||
| 申请公布号 | CN102017123A | 申请公布日期 | 2011.04.13 |
| 申请号 | CN200980116023.6 | 申请日期 | 2009.05.04 |
| 申请人 | 应用材料股份有限公司 | 发明人 | 迈克尔·D·威尔沃思;戴维·帕拉加什维里;布赖恩·K·哈彻;亚历山大·M·帕特森;道格拉斯·A·小布赫伯格 |
| 分类号 | H01L21/683(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I;H05H1/34(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/683(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人 | 徐金国;王金宝 |
| 主权项 | 一种用于等离子体反应腔室内的工件支撑座，包括：(A)绝缘盘，具有工件支撑表面；(B)导电板，位于所述绝缘盘下方，所述绝缘盘包含多个电机构以及多个热传媒通道；(C)轴向移位共轴射频路径组件，位于所述导电板下方，且包括中心导体、接地的外侧导体以及隔离该中心导体与该外侧导体的管状绝缘体，由此所述绝缘盘、所述板以及所述共轴射频路径组件组成可动组件；(D)举升伺服机构，耦接至所述共轴组件以进行轴向移位；(F)多个导管，轴向地延伸通过所述中心导体并耦接至所述热传媒机构；(G)多个电导体，轴向地延伸通过所述管状绝缘体且连接至所述电机构。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||