发明名称 在衬底上形成的半圆柱体阵列的制图外延自我组装
摘要 本发明提供利用自我组装嵌段共聚物制造呈成列阵列的亚光刻纳米级微结构的方法以及自所述方法形成的膜和装置。
申请公布号 CN102015524A 申请公布日期 2011.04.13
申请号 CN200980115861.1 申请日期 2009.04.20
申请人 美光科技公司 发明人 丹·B·米尔沃德;唐纳德·维斯特摩兰
分类号 B81C1/00(2006.01)I 主分类号 B81C1/00(2006.01)I
代理机构 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人 宋献涛
主权项 一种在衬底上形成纳米结构聚合物材料的方法,其包含:在所述衬底上的材料层中的沟槽内形成自我组装嵌段共聚物材料,所述沟槽具有长度、中性润湿底面、和优先润湿所述嵌段共聚物的次要嵌段的相对侧壁和端部;将优先润湿所述次要嵌段的材料施加至所述沟槽内所述嵌段共聚物材料的上方并与所述嵌段共聚物材料接触;和使所述嵌段共聚物材料退火,以使得所述嵌段共聚物材料自我组装成所述嵌段共聚物的次要嵌段存于所述嵌段共聚物的主要嵌段基质内的半圆柱体结构域,所述半圆柱体聚合物结构域平行于所述沟槽底面定向并且沿所述沟槽的长度延伸,所述半圆柱体结构域具有朝向所述中性润湿沟槽底面定向并且润湿所述中性润湿沟槽底面的面。
地址 美国爱达荷州