发明名称 投影光学系统和图像显示设备
摘要 本发明公开的是一种投影光学设备,包括:由具有屈光力的多个光学元件构成的形成与物体共轭的像的投影光学系统;以及构造为所述与物体共轭的像被投射的投影表面;没有屈光力的偏转元件,其被配置为偏转从所述投影光学系统出射的光束的光路以在所述多个光学元件之间通过所述光路被偏转的光束,其中在所述投影表面中心的投影表面法线不通过所述多个光学元件或所述多个光学元件之间。
申请公布号 CN101414055B 申请公布日期 2011.04.13
申请号 CN200810212876.7 申请日期 2008.09.08
申请人 株式会社理光 发明人 藤田和弘;高浦淳;安部一成
分类号 G02B17/08(2006.01)I;H04N5/74(2006.01)I 主分类号 G02B17/08(2006.01)I
代理机构 上海市华诚律师事务所 31210 代理人 陈乃泓
主权项 一种投影光学设备,其特征在于,包含:由具有屈光力的多个光学元件构成的形成与物体共轭的像的投影光学系统;以及构造为所述与物体共轭的像被投射的投影表面;没有屈光力的偏转元件,其被配置为偏转从所述投影光学系统出射的光束的光路以在所述多个光学元件之间通过所述光路被偏转的光束,其中在所述投影表面中心的投影表面法线不通过所述多个光学元件或所述多个光学元件之间。
地址 日本国东京都大田区中马込一丁目3番6号