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一种化学机械平坦化研磨液，包含：至少一研磨颗粒、至少一习知的氧化剂以及至少一习知的载体，所述载体品质百分含量X为0.1~20%，所述氧化剂品质百分含量Y为1~30%，所述研磨颗粒品质百分含量Z为(1-X-Y)，其特征在于，该研磨颗粒为内部带电颗粒和/或磁化颗粒，且该研磨颗粒包含下列成分其中之一：SiO2、Al2O3、CaCO3、ZrO、CeO2、TiO2、Si3N4、AlN、TiN、SiC、Al(OH)3、聚乙烯以及聚四氟乙烯。如申请专利范围第1项所述之化学机械平坦化研磨液，其特征在于：该化学机械平坦化研磨液包含下列研磨颗粒其中之一：材料比被抛光的衬底软的颗粒、外层为软材料且内层为硬材料的颗粒、内部带电颗粒、磁化颗粒以及空心颗粒。如申请专利范围第2项所述之化学机械平坦化研磨液，其特征在于：该研磨颗粒系用于表面精加工以及选择性抛光。如申请专利范围第1项所述之化学机械平坦化研磨液，其特征在于：该研磨颗粒包含两个部分，该颗粒硬度是在两部分硬度之间。如申请专利范围第1项所述之化学机械平坦化研磨液，其特征在于：该研磨液包含制备一钝化层的一种或多种化学成分。如申请专利范围第5项所述之化学机械平坦化研磨液，其特征在于：该钝化层包含下列成分其中之一：Al2O3、Al(OH)3以及有机化合物。如申请专利范围第1项所述之化学机械平坦化研磨液，其特征在于：该研磨液另包含一缓冲剂以及一钝化剂。 |
