发明名称 负C-型补偿膜及其之制备方法
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.04.11
申请号 TW095133933 申请日期 2006.09.13
申请人 LG化学股份有限公司 发明人 李晓宣;金东烈;金熹正;南大佑;柳相旭;丁鹏郡;车周垠;李昊俊
分类号 G02F1/13363 主分类号 G02F1/13363
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种负C-型补偿膜,包含:(a)一底层;及(b)一包含聚芳酯的聚合物层,该聚芳酯包含有一式(1)单元并系藉由将二价苯酚、二价芳香性羧酸卤化物及0.01至49.9莫耳%之式(2)的丙烯基双苯酚衍生物加以共聚合所制备成的,且该底层与该聚合物层系依序层积,@sIMGTIF!d10007.TIF@eIMG!其中每一R1至R8可分别为氢、含有1至12个碳原子的烷基、含有7至12个碳原子的芳烷基、含有6至12个碳原子的芳基、腈、含有2至12个碳原子的伸烷腈(alkylenenitrile)、含有1至12个碳原子的烷氧基、含有1至12个碳原子的醯基、含有2至12个碳原子的烯基、含有3至12个碳原子的烷烯基、含有8至12个碳原子的芳烯基或卤素,其中上述取代基中的烯基中可引入至少一选自下列的官能基:环氧化物基、烷氧基、羟基及胺基,前提是该R1至R4中至少一者或该R5至R8中至少一者为含有2至12个碳原子的烯基、含有3至12个碳原子的烷烯基、或含有8至12个碳原子的芳烯基,其中上述取代基中的烯基中可引入至少一选自下列的官能基:环氧化物基(an epoxide group)、烷氧基、羟基及胺基;每一W及W’可分别为一直接键结,或每一W及W’可分别为氧、硫、亚碸(sulfoxide)、碸(sulfone)、含有1至30个碳原子的亚烷基(alkylidene)、含有2至30个碳原子的伸烷基、含有3至30个碳原子的环亚烷基(cycloalkylidene)、含有3至30个碳原子的环伸烷基(cycloalkylene)或含有苯基取代基之含有2至30个碳原子的伸烷基;及每一-OOCYCOO-和-OOCY’COO-可分别为对苯二甲酸、间苯二甲酸、二苯甲酸或萘二羧酸,其中该芳香性基可含有一选自以下的取代基:含有1至8个碳原子的烷基、芳基、烷芳基及卤素,和@sIMGTIF!d10008.TIF@eIMG!其中每一R9至R12可分别为氢、含有1至12个碳原子的烷基、含有7至12个碳原子的芳烷基、含有6至12个碳原子的芳基、腈、含有2至12个碳原子的伸烷腈(alkylenenitrile)、含有1至12个碳原子的烷氧基、含有1至12个碳原子的醯基、含有2至12个碳原子的烯基、含有3至12个碳原子的烷烯基、含有8至12个碳原子的芳烯基或卤素,前提是该R9至R12中至少一者为含有2至12个碳原子的烯基、含有3至12个碳原子的烷烯基或含有8至12个碳原子的芳烯基;及W为一直接键结,或是氧、硫、亚碸(sulfoxide)、碸(sulfone)、含有1至30个碳原子的亚烷基(alkylidene)、含有2至30个碳原子的伸烷基、含有3至30个碳原子的环亚烷基(cycloalkylidene)、含有3至30个碳原子的环伸烷基(cycloalkylene)或含有苯基取代基之含有2至30个碳原子的伸烷基。如申请专利范围第1项所述之负C-型补偿膜,其中该补偿膜在厚度方向上具有一由以下方程式(1)所界定的相位差值,其系为负值且为30 nm或更高:@sIMGTIF!d10021.TIF@eIMG!其中,nz为膜层在厚度方向上的折射率,nx及ny为膜层在表面方向上的折射率,d代表膜层厚度,且Rth系厚度方向上的相位差。如申请专利范围第1项所述之负C-型补偿膜,其中该底层系选自一玻璃板或一聚合物层,该聚合物层系由一选自下列的聚合物所构成,包括聚碳酸酯、三乙醯基纤维素、环烯羟聚合物、环烯羟共聚物、(甲基)丙烯酸酯聚合物及其之一或多种混合物;该底层之由以下方程式(1)所界定的相位差值为100 nm或更高,且该底层的厚度为10 μm至200 μm:@sIMGTIF!d10022.TIF@eIMG!其中,nz为膜层在厚度方向上的折射率,nx及ny为膜层在表面方向上的折射率,d代表膜层厚度,且Rth系厚度方向上的相位差。如申请专利范围第1项所述之负C-型补偿膜,其中该聚芳酯包含一式(3)所代表的单元:@sIMGTIF!d10009.TIF@eIMG!如申请专利范围第1项所述之负C-型补偿膜,其中该聚芳酯包含一式(4)所代表的单元:@sIMGTIF!d10010.TIF@eIMG!如申请专利范围第1项所述之负C-型补偿膜,其中该聚芳酯包含一式(5)所代表的单元:@sIMGTIF!d10011.TIF@eIMG!如申请专利范围第1项所述之负C-型补偿膜,其中该聚芳酯包含一式(6)所代表的单元:如申请专利范围第1项所述之负C-型补偿膜,更包含一保护层,其位在该底层之至少一面上和/或该由聚芳酯所形成之聚合物层的至少一面上。如申请专利范围第8项所述之负C-型补偿膜,其中该保护层是:一种有机/无机混合的保护层,其系由一种选自下列所组群组的组合物所形成:一种包含有机矽烷、金属烷氧化物及充填剂之组合物;一种包含一丙烯醛树脂(acryl resin)、以二氧化矽-分散的有机矽烷之寡聚物溶液及一硬化催化剂的组合物,其中该丙烯醛树脂系选自由一丙烯酸酯寡聚物溶液、一甲基丙烯酸酯寡聚物溶液及一丙烯酸酯/甲基丙烯酸酯寡聚物溶液所组成之群组;以及一种包含聚矽氧(silicone)寡聚物溶液、丙烯酸酯寡聚物溶液、丙烯酸酯单体溶液、光起始剂、和/或热起始剂之组合物,其中聚矽氧寡聚物溶液具有二或多个可经由水解一聚矽氧偶合剂及一油性胶态二氧化矽而形成的丙烯酸酯官能基;或是一有机保护层系可由选自下列所组群组的一种聚合物来形成,包括丙烯酸酯聚合物、甲基丙烯酸酯聚合物、及丙烯酸酯/甲基丙烯酸酯共聚物。如申请专利范围第1项所述之负C-型补偿膜,其更包含一表面重形层,位在该底层(a)及该聚合物层(b)之间。一种制备如申请专利范围第1至7项中任一项所述之负C-型补偿膜的方法,包含:a)混合聚芳酯与一种有机溶剂来制备出一种聚芳酯溶液,其中该聚芳酯系藉由将二价苯酚、二价芳香性羧酸卤化物及0.01至49.9莫耳%之式(2)的丙烯基双酚衍生物加以共聚合所生成的;b)将该聚芳酯溶液施加到一底基板上,并将溶剂挥发以产生一铸膜层(a cast film),及c)将该铸膜层乾燥以获得该补偿膜;@sIMGTIF!d10012.TIF@eIMG!其中每一R9至R12可分别为氢、含有1至12个碳原子的烷基、含有7至12个碳原子的芳烷基、含有6至12个碳原子的芳基、腈、含有2至12个碳原子的伸烷腈(alkylenenitrile)、含有1至12个碳原子的烷氧基、含有1至12个碳原子的醯基、含有2至12个碳原子的烯基、含有3至12个碳原子的烷烯基、含有8至12个碳原子的芳烯基或卤素,前提是该R9至R12中至少一者为含有2至12个碳原子的烯基、含有3至12个碳原子的烷烯基或含有8至12个碳原子的芳烯基;及W为一直接键结,或是氧、硫、亚碸(sulfoxide)、碸(sulfone)、含有1至30个碳原子的亚烷基(alkylidene)、含有2至30个碳原子的伸烷基、含有3至30个碳原子的环亚烷基(cycloalkylidene)、含有3至30个碳原子的环伸烷基(cycloalkylene)或含有苯基取代基之含有2至30个碳原子的伸烷基。一种如申请专利范围第1至10项中任一项所述之负C-型补偿膜之用途,其系用于改善液晶显示器的视角。
地址 南韩