发明名称 三偶氮反应性染料化合物
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.04.11
申请号 TW096120872 申请日期 2007.06.08
申请人 台湾永光化学工业股份有限公司 发明人 陈文政;高祯隆
分类号 C09B33/24 主分类号 C09B33/24
代理机构 代理人 吴冠赐 台北市松山区敦化北路102号9楼;苏建太 台北市松山区敦化北路102号9楼;林志鸿 台北市松山区敦化北路102号9楼
主权项 一种如下式(I)之三偶氮反应性染料化合物,@sIMGTIF!d10028.TIF@eIMG!其中,R为-OH、-NR2R3、@sIMGCHAR!d10050.TIF@eIMG!、或@sIMGCHAR!d10051.TIF@eIMG!,其中,R2及R3各自独立选自:氢原子、经取代或未经取代之C1-4烷基、及经取代或未经取代之苯环所组成之族群,该取代基系分别选自:羟基、羧基、磺酸基及C2-6烷氧羰基所组成之族群;R8、R9、及R10各自独立的分别为C1-4烷基;D为如下式(D-a)之基团,@sIMGTIF!d10029.TIF@eIMG!其中,(R1)0-4系各自独立之0至4个相同或不相同之取代基,其选自:卤素、羟基、羧基、磺酸基(sulfo)、C1-4烷基、C1-4烷氧基及C2-6烷氧羰基(alkoxycarbonyl)所组成之族群;A及B各自独立选自如下式(D-b)之基团,@sIMGTIF!d10030.TIF@eIMG!其中,(R1)0-4定义如前所述;Q选自:-NH-CO-CHX-CH2-X、-NH-CO-CX=CH2、-CONH(CH2)n-SO2-Y、及-SO2-Y所组成之族群,其中,X为卤素原子;Y为-CH=CH2或-CH2CH2U;U为以硷处理可离去之基团;且m和n为2至3之整数。如申请专利范围第1项之三偶氮反应性染料化合物,其中,Q为-SO2-Y,而Y为-CH=CH2或-CH2CH2U,U为以硷处理可离去之基团。如申请专利范围第2项之三偶氮反应性染料化合物,其中,U是Cl或-OSO3H。如申请专利范围第1项之三偶氮反应性染料化合物,其中,该式(D-a)之(R1)0-4为0至4个相同或不相同之取代基,其选自:磺酸基、甲基、及甲氧基所组成之族群。如申请专利范围第1项之三偶氮反应性染料化合物,其中,该式(D-b)之(R1)0-4为0至4个相同或不相同之取代基,其选自:磺酸基、甲基、及甲氧基所组成之族群;且Q选自:-NH-CO-CHX-CH2-X、-NH-CO-CX=CH2、-CONH(CH2)n-SO2-Y、及-SO2-Y所组成之族群,其中,X为卤素原子;Y为-CH=CH2或-CH2CH2U;U为以硷处理可离去之基团。如申请专利范围第5项之三偶氮反应性染料化合物,其中,Q为-SO2-Y,而Y为-CH=CH2或-CH2CH2U,U为以硷处理可离去之基团。如申请专利范围第6项之三偶氮反应性染料化合物,其中,U是Cl或-OSO3H。如申请专利范围第1项之三偶氮反应性染料化合物,其中,该式(I)偶氮反应性染料为如下式(Ia)之化合物:@sIMGTIF!d10031.TIF@eIMG!其中,Q1及Q2各自独立选自:-NH-CO-CHX-CH2-X、-NH-CO-CX=CH2、-CONH(CH2)n-SO2-Y、及-SO2-Y所组之族群,其中,Y为-CH=CH2或-CH2CH2U;U为以硷处理可离去之基团;X为卤素原子;R4、R5、及R11各自独立选自:卤素原子、羟基、羧基、C1~4烷基、C1~4烷氧基、C2~6烷氧羰基、及磺酸基所组之族群;s、t、及z各自独立为0至2之整数;且R、m及n定义如申请专利范围第1项所述。如申请专利范围第8项之三偶氮反应性染料化合物,其中,该式(Ia)化合物为如下式(1)之化合物:@sIMGTIF!d10032.TIF@eIMG!如申请专利范围第8项之三偶氮反应性染料化合物,其中,该式(Ia)化合物为如下式(2)之化合物:@sIMGTIF!d10033.TIF@eIMG!如申请专利范围第8项之三偶氮反应性染料化合物,其中,该式(Ia)化合物为如下式(3)之化合物:@sIMGTIF!d10034.TIF@eIMG!@sIMGTIF!d10035.TIF@eIMG!如申请专利范围第8项之三偶氮反应性染料化合物,其中,该式(Ia)化合物为如下式(4)之化合物:@sIMGTIF!d10036.TIF@eIMG!如申请专利范围第8项之三偶氮反应性染料化合物,其中,该式(Ia)化合物为如下式(5)之化合物:@sIMGTIF!d10037.TIF@eIMG!如申请专利范围第8项之三偶氮反应性染料化合物,其中,该式(Ia)化合物为如下式(6)之化合物:@sIMGTIF!d10038.TIF@eIMG!如申请专利范围第8项之三偶氮反应性染料化合物,其中,该式(Ia)化合物为如下式(7)之化合物:@sIMGTIF!d10039.TIF@eIMG!如申请专利范围第8项之三偶氮反应性染料化合物,其中,该式(Ia)化合物为如下式(8)之化合物:@sIMGTIF!d10040.TIF@eIMG!如申请专利范围第8项之三偶氮反应性染料化合物,其中,该式(Ia)化合物为如下式(9)之化合物:@sIMGTIF!d10041.TIF@eIMG!如申请专利范围第8项之三偶氮反应性染料化合物,其中,该式(Ia)化合物为如下式(10)之化合物:@sIMGTIF!d10042.TIF@eIMG!如申请专利范围第8项之三偶氮反应性染料化合物,其中,该式(Ia)化合物为如下式(11)之化合物:@sIMGTIF!d10043.TIF@eIMG!如申请专利范围第8项之三偶氮反应性染料化合物,其中,该式(Ia)化合物为如下式(12)之化合物:@sIMGTIF!d10044.TIF@eIMG!如申请专利范围第8项之三偶氮反应性染料化合物,其中,该式(Ia)化合物为如下式(13)之化合物:@sIMGTIF!d10045.TIF@eIMG!如申请专利范围第8项之三偶氮反应性染料化合物,其中,该式(Ia)化合物为如下式(14)之化合物:@sIMGTIF!d10046.TIF@eIMG!如申请专利范围第8项之三偶氮反应性染料化合物,其中,该式(Ia)化合物为如下式(15)之化合物:@sIMGTIF!d10047.TIF@eIMG!
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