发明名称 生产抗反射薄膜之方法
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.04.11
申请号 TW093126233 申请日期 2004.08.31
申请人 富士软片股份有限公司 发明人 大谷薰明;加藤荣一
分类号 G02B1/11 主分类号 G02B1/11
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 一种经由使用涂布装置涂布光扩散层或低折射率层用涂布溶液之至少一者以生产抗反射薄膜之方法,此方法包含于前缘区被带至接近经支撑辊支撑之连续运送卷材表面的前缘之情况下涂布来自狭槽模具前缘之狭槽之涂布溶液,其中此装置包含狭槽模具,其中于卷材运送方向侧上狭槽模具前缘于卷材运送方向及于卷材运送方向对侧上狭槽模具之前缘具有30至100μm之区长度,且当设定狭槽模具于涂布位置时,配置此卷材以得到间隙较卷材运送方向上前缘与卷材之间的间隙大于30至120μm。如申请专利范围第1项之方法,其中于涂布时涂布溶液之黏性为2.0m Pa.sec或以下且涂布于卷材表面上之涂布溶液之量为2.0至5.0ml/m2。如申请专利范围第1或2项之方法,其中以25m/min或以上之速率将涂布溶液涂布于连续运送卷材之表面上。
地址 日本