发明名称 静电式扬声器结构与其制造方法
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.04.11
申请号 TW096133208 申请日期 2007.09.06
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 刘昌和;陈明道
分类号 H04R31/00 主分类号 H04R31/00
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 一种扬声器结构,包括:一振膜;一电极,具有多个开孔;一边框支撑体,分别连接该振膜与该电极于对应两侧;以及多个支撑体,配置于该电极非开孔区域与该振膜之间,藉以防止该振膜与该电极之接触,其中,该些支撑体的配置布局方式,为调整相邻该些支撑体的高度与相邻该些支撑体的距离。如申请专利范围第1项所述之扬声器结构,其中该些支撑体的几何外形为三角柱形、圆柱形或是矩形。如申请专利范围第1项所述之扬声器结构,其中该些支撑体的是采用转印方式形成于该电极或该振膜上。如申请专利范围第3项所述之扬声器结构,其中该转印方式包括喷墨列印或网版印刷其中之一。如申请专利范围第1项所述之扬声器结构,其中该些支撑体的是采用转贴方式形成于该电极或该振膜上。如申请专利范围第5项所述之扬声器结构,其中该转贴方式为该些支撑体与该振膜或电极黏着。如申请专利范围第5项所述之扬声器结构,其中该转贴方式为该些支撑体与该振膜或电极不黏着。如申请专利范围第1项所述之扬声器结构,其中该些支撑体的是经由蚀刻方式形成于该电极或该振膜上。如申请专利范围第1项所述之扬声器结构,其中该些支撑体的是经由光阻曝光显影(Photolithography)方式形成于该电极或该振膜上。如申请专利范围第1项所述之扬声器结构,其中该些支撑体由透明且可挠曲的材质。如申请专利范围第1项所述之扬声器结构,其中该些支撑体为点状结构。如申请专利范围第1项所述之扬声器结构,其中该些支撑体为栅状结构。如申请专利范围第1项所述之扬声器结构,其中该些支撑体为类十字状结构。如申请专利范围第1项所述之扬声器结构,其中该电极之材质为金属材质,且该些支撑体位于该金属电极与该振膜之间。如申请专利范围第1项所述之扬声器结构,其中该振膜至少包括一驻极体层与一导电电极层。如申请专利范围第15项所述之扬声器结构,其中该驻极体层与组成的驻极体材料选自氟化乙烯丙烯共聚物(FEP,fluorinated ethylenepropylene)、聚四氟乙烯(PTFE,polytetrafluoethylene)、聚氟亚乙烯(PVDF,polyvinylidene fluride)或部份含氟高分子聚合物(Fluorine Polymer)其中一种或其组合。如申请专利范围第1项所述之扬声器结构,其中该电极具有多条交错配置的条状电极所组成,而交错位置的非开孔区域,则选择性地配置该些支撑体。一种扬声器制造方法,包括:形成一电极;形成一边框支撑体,用以构成该扬声器结构之外形,并用以固定该电极于一侧;以及形成一振膜,固定于该边框支撑体之另一侧,其中该电极与该振膜间面对面固定于该边框支撑体,并且在该电极与该振膜之间所形成的一空间,配置多个支撑体于该电极非开孔区域与该振膜之间,藉以防止该振膜与该电极之接触,其中,该些支撑体的配置布局方式,为调整相邻该些支撑体的高度与相邻该些支撑体的距离。如申请专利范围第18项所述之扬声器制造方法,其中该些支撑体的是采用转印方式形成于该电极或该振膜上。如申请专利范围第19项所述之扬声器制造方法,其中该转印方式包括喷墨列印或网版印刷其中之一。如申请专利范围第18项所述之扬声器制造方法,其中该些支撑体的是采用转贴方式形成于该电极或该振膜上。如申请专利范围第21项所述之扬声器制造方法,其中该转贴方式为该些支撑体与该振膜或电极黏着。如申请专利范围第21项所述之扬声器制造方法,其中该转贴方式为该些支撑体与该振膜或电极不黏着。如申请专利范围第18项所述之扬声器制造方法,其中该些支撑体的是经由蚀刻该电极或该振膜上的一材料层而形成。如申请专利范围第18项所述之扬声器制造方法,其中该些支撑体的是经由光阻曝光显影(Photolithography)方式形成于该电极或该振膜上。如申请专利范围第18项所述之扬声器制造方法,其中形成该电极包括形成多条交错配置的条状电极,而交错位置的非开孔区域,则选择性地配置该些支撑体。
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号