| 主权项 |
一种光学式非球面量测平台，包含：一偏摆旋转机构，系用于提供量测时之偏摆运动，以使一固定量测探头能量测到偏摆直径两端之间之曲面范围；以及一半径调整机构，固定在该偏摆旋转机构之上，用于调整一待测物之球心位置与该偏摆旋转机构之中心位置相重合。如申请专利范围第1项之光学式非球面量测平台，其更包含一元件镜头座，该元件镜头座系固定于该半径调整机构上。如申请专利范围第1项之光学式非球面量测平台，其更包含一一维或二维之位置校正机构与一连结结构，其中该连结结构用来锁固该位置校正机构，使得一待测物可做水平调整。如申请专利范围第3项之光学式非球面量测平台，其中该连结结构包含一L型转接板。如申请专利范围第3项之光学式非球面量测平台，其中该位置校正机构包含一XY精密平移台。如申请专利范围第1项之光学式非球面量测平台，其中该半径调整机构包含一单轴精密平移台。如申请专利范围第1项之光学式非球面量测平台，其中该半径调整机构之侧边更包含一刻度尺，用以减少偏心校正时间。如申请专利范围第1项之光学式非球面量测平台，其中该偏摆旋转机构包含一可旋转360度之马达，该马达包含一侧立旋转马达。一种光学式非球面量测系统，包含：一光学式非球面量测平台，具有一偏摆旋转机构，其中该光学式非球面量测平台可调整一待测物之球心位置与该偏摆旋转机构之中心位置相重合；一干涉光路系统，包含一量测探头，用以量测该偏摆旋转机构之偏摆直径两端之间之曲面范围；以及一量测支架，用以固定该光学式非球面量测平台及该干涉光路系统，并用于调整该量测探头与待测物之相对距离。如申请专利范围第9项之光学式非球面量测系统，其中该光学式非球面量测平台另包含固定在该偏摆旋转机构之上之一半径调整机构，该半径调整机构用于调整一待测物之球心位置至该偏摆旋转机构之中心位置。如申请专利范围第10项之光学式非球面量测系统，其中该光学式非球面量测平台更包含一元件镜头座，该元件镜头座系固定于该半径调整机构上。如申请专利范围第9项之光学式非球面量测系统，其中该光学式非球面量测平台更包含一一维或二维之位置校正机构与一连结结构，其中该连结结构用来锁固该位置校正机构，使得该待测物之球心位置可调整至该干涉光路系统之光轴上。如申请专利范围第12项之光学式非球面量测系统，其中该连结结构包含一L型转接板。如申请专利范围第12项之光学式非球面量测系统，其中该位置校正机构包含一XY精密平移台。如申请专利范围第10项之光学式非球面量测系统，其中该半径调整机构包含一单轴精密平移台。如申请专利范围第10项之光学式非球面量测系统，其中该半径调整机构之侧边更包含一刻度尺，用以减少偏心校正时间。如申请专利范围第10项之光学式非球面量测系统，其中该偏摆旋转机构所用之马达包含一侧立旋转马达，而该马达可旋转360度。如申请专利范围第9项之光学式非球面量测系统，其中该干涉光路系统之架构包含一以Linnik光路为基础所发展的光干涉架构。 |
