发明名称 Gitterstruktur für die Oberflächenplasmonenresonanzspektroskopie
摘要 Zur Herstellung einer profilierten Gitterstruktur auf einem Substrat, das zur Verwendung für die Oberflächenplasmonenresonanzspektroskopie bestimmt ist, wird eine planebene Platte mit einem positiven Photoresist beschichtet, das Photoresist in parallelen Spuren entsprechend der Gitterkonstante belichtet, anschließend entwickelt und die Entwicklung abgebrochen bevor der Entwicklungsprozess die Oberfläche der Platte erreicht. Nach dem Metallisieren und galvanischen Abformen des entwickelten und gespülten Oberflächenprofils steht eine Matrize zur Verfügung, die die preiswerte Abformung des Substrats aus dem thermoplastischen Kunststoff ermöglicht.
申请公布号 DE102009047922(A1) 申请公布日期 2011.04.07
申请号 DE200910047922 申请日期 2009.10.01
申请人 SONOPRESS GMBH 发明人 STEINBRECHT, BENNO
分类号 B81C1/00;G01J3/44;G01N21/55;G01N33/483 主分类号 B81C1/00
代理机构 代理人
主权项
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