摘要 |
Zur Herstellung einer profilierten Gitterstruktur auf einem Substrat, das zur Verwendung für die Oberflächenplasmonenresonanzspektroskopie bestimmt ist, wird eine planebene Platte mit einem positiven Photoresist beschichtet, das Photoresist in parallelen Spuren entsprechend der Gitterkonstante belichtet, anschließend entwickelt und die Entwicklung abgebrochen bevor der Entwicklungsprozess die Oberfläche der Platte erreicht. Nach dem Metallisieren und galvanischen Abformen des entwickelten und gespülten Oberflächenprofils steht eine Matrize zur Verfügung, die die preiswerte Abformung des Substrats aus dem thermoplastischen Kunststoff ermöglicht.
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