| 发明名称 | 蚀刻液 | ||
| 摘要 | 本发明涉及蚀刻液，提供即使在高温条件下也能够可靠地维持铜层与绝缘层的密合性，而且能够提高对广泛的绝缘材料的密合性的蚀刻液。一种蚀刻液，是含有硫酸、过氧化氢及水的铜的蚀刻液，含有苯基四唑类和硝基苯并三唑类。 | ||
| 申请公布号 | CN101487122B | 申请公布日期 | 2011.04.06 |
| 申请号 | CN200810187717.6 | 申请日期 | 2008.12.31 |
| 申请人 | MEC股份有限公司 | 发明人 | 中村幸子;中岛庆一 |
| 分类号 | C23F1/18(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 蒋亭;苗堃 |
| 主权项 | 一种蚀刻液，是含有硫酸、过氧化氢及水的铜的蚀刻液，其特征在于，含有苯基四唑类和硝基苯并三唑类，所述苯基四唑类的浓度为0.01～0.7g/L，所述硝基苯并三唑类的浓度为0.01～1.5g/L，将所述苯基四唑类的浓度记作A g/L，并将所述硝基苯并三唑类的浓度记作B g/L时，B/A为1.0～3.0。 | ||
| 地址 | 日本兵库县 | ||