光刻设备和器件制造方法

摘要

一种利用代表辐射源的波长改变的数据提供焦平面控制或提供传感器数据修正的方法和设备。在第一方面，波长变化数据被提供用于控制系统，所述控制系统通过移动包括例如掩模台、衬底台或投影光学系统的光学元件的设备部件控制聚焦。在第二方面，变化的数据用于修正例如由机内传感器，例如透射图像传感器，测量的焦平面位置数据。这两个方面可以组合在单个设备中，或者可以独立地使用。

主权项

一种采用光刻设备将图案成像到衬底上的方法，包括步骤：对辐射束进行图案化；测量辐射束的波长变化；采用透射图像传感器进行沿着平行于晶片台的X‑Y平面的水平扫描；基于所测量到的波长变化，通过将位于晶片台中的透射图像传感器内的图案与光刻设备的掩模台上的相应图案对齐来确定最好重叠条件，所述波长变化包括波长啁啾；以及基于所确定的最好重叠条件将图案化的辐射束投影到衬底上。