红外焦平面封装窗口的金属化方法

摘要

本发明提供了一种红外焦平面封装窗口的金属化方法，该方法采用离子辅助蒸发技术实现红外封装窗口金属化区的金属化。即在蒸发设备中装入离子能量低、离子密度高的离子源实现离子辅助，在离子辅助氛围下顺序在封装窗口金属化区上蒸镀一层铆定层、一层阻隔层和一层焊接层。本发明的方法在离子辅助蒸发金属过程中，Ar离子能将自身的能量传递给蒸发金属原子，有效提高金属原子在基片表面的迁移能，并且提高了金属原子对基片的注入效应，能有效提高膜层致密度，减小膜层应力，增强金属膜层与基片的附着力，改善膜层性能。

主权项

一种红外焦平面封装窗口的金属化方法，在红外窗口基片上实施，其特征在于：将基片中间的红外薄膜区用掩膜覆盖，四周作为金属化区，置于蒸发设备中；在蒸发设备中装入离子能量低、离子密度高的离子源实现离子辅助，按以下步骤进行金属化：a、利用离子源清洁基片；b、在基片的金属化区上蒸镀一层Cr或Ti作为铆定层；c、在铆定层上蒸镀一层Ni、Pt或Pd作为阻隔层；d、在阻隔层上蒸镀一层Au作为焊接层。