发明名称 粒子束辐射装置和粒子束辐射方法
摘要 根据本发明的粒子束辐射装置包括:束生成单元;束发射控制单元,其控制粒子束发射;束扫描指示单元,对于通过在粒子束轴线方向上划分将要辐射的患病区域所获得的切片中的每个,束扫描指示单元连续二维指示粒子束位置;束扫描单元,其基于来自束扫描指示单元的指示信号二维扫描粒子束;荧光体膜,其提供在束扫描单元和患者之间,并且以对应于透射经过其的粒子束的粒子剂量的量来发光;成像单元,其对于切片中的每个,对荧光体膜成像;以及显示单元,其从由成像单元所成像的图像数据中获得切片中的每个的辐射剂量分布,并且显示所获得的与粒子束扫描位置相关的辐射剂量分布。
申请公布号 CN102000398A 申请公布日期 2011.04.06
申请号 CN201010271493.4 申请日期 2010.09.02
申请人 株式会社东芝 发明人 井关康;高桥正雄;塙胜词;前田一尚;井上笃郎;永渊照康;角谷畅一
分类号 A61N5/10(2006.01)I 主分类号 A61N5/10(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 王英;刘炳胜
主权项 一种粒子束辐射装置,包括:束生成单元,其生成粒子束;束发射控制单元,其控制所述粒子束的发射;束扫描指示单元,对于通过在所述粒子束的轴线方向上划分将要辐射的患病区域所获得的切片中的每个,所述束扫描指示单元连续二维指示所述粒子束的位置;束扫描单元,其基于来自所述束扫描指示单元的指示信号二维扫描所述粒子束;荧光体膜,其提供在所述束扫描单元和患者之间,并且以对应于透射通过其的所述粒子束的粒子剂量的量来发光;成像单元,对于所述切片中的每个,所述成像单元对所述荧光体膜成像;以及显示单元,其从由所述成像单元所成像的图像数据中获得所述切片中的每个的辐射剂量分布,并且显示所获得的与所述粒子束的扫描位置相关的辐射剂量分布。
地址 日本东京都