具有可调整孔径的离子源

摘要

本发明公开一种离子植入器系统，其包括一种使用于产生离子流或离子射束的一离子源。该离子源具有一离子源室壳体，其至少部分地限定一离子化区域，以用于在该室壳体中产生高密度的离子浓度。一所想要特征的离子撷取孔径覆盖一弧形室的该离子化区域。在一实施例中，一可移动离子撷取孔径板相对于该壳体移动，以用于修正一离子射束轮廓。一实施例包括一孔径板，其具有至少一延长孔径，且在至少界定不同离子射束轮廓的一第一位置与一第二位置间移动。耦接至该孔径板的一驱动器或致动器系将该孔径板在该第一位置与该第二位置间移动。一替代实施例具有两个移动板部分，其限定一可调整孔径。

主权项

一种使用于产生离子流的离子源，所述离子源包括：离子源室，其至少部分地限定用于在所述离子源室中产生高密度离子浓度的离子化区域；壁，所述壁用于提供不同形状的离子撷取孔径；以及驱动器，所述驱动器用于将该壁移动至相对于所述离子源室的操作位置中，以允许在所述离子源室中的离子经由所述离子撷取孔径而射出，其中所述离子撷取孔径具有所想要的形状以提供所想要的离子射束轮廓。