| 发明名称 | 光学器件及其制造方法和母板的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了光学器件及其制造方法、以及母板的制造方法。其中，具有防反射功能的光学器件，包括：基底；以及多个结构体，由凸部或凹部形成，以等于或小于可见光波长的微小节距配置在基底的表面上。多个结构体被配置为在基底的表面上形成多列轨迹，并且形成准六方点阵图案、四方点阵图案或准四方点阵图案，并且结构体对基底表面的填充率等于或高于65％。 | ||
| 申请公布号 | CN102004272A | 申请公布日期 | 2011.04.06 |
| 申请号 | CN201010265401.1 | 申请日期 | 2010.08.26 |
| 申请人 | 索尼公司 | 发明人 | 远藤惣铭;林部和弥 |
| 分类号 | G02B1/11(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G02B1/11(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人 | 余刚;吴孟秋 |
| 主权项 | 一种光学器件，具有防反射功能，所述光学器件包括：基底；以及多个结构体，由凸部或凹部形成，以等于或小于可见光波长的微小节距配置在所述基底的表面上，其中，所述多个结构体被配置为在所述基底的表面上形成多列轨迹，并且形成准六方点阵图案、四方点阵图案或准四方点阵图案，并且其中，所述结构体对所述基底的表面的填充率等于或高于65％。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||