发明名称 压电MEMS开关及制造方法
摘要 一种MEMS压电开关(100),其提供结构紧凑、易于在单个单元中制造、以及没有高温导致的接触材料的形态变化与作为结果而发生的对特性的不利影响的优点。高温导致的形态变化指:当诸如射频线(125,130)和短路条(150)的金属接触暴露到退火压电层所要求的温度或者如果换而使用高温沉积处理而在压电层的高温沉积期间所遇到的温度时,在制造期间发生的变化。
申请公布号 CN101390226B 申请公布日期 2011.04.06
申请号 CN200780006767.3 申请日期 2007.01.31
申请人 飞思卡尔半导体公司 发明人 刘连军
分类号 H01L41/00(2006.01)I;H02N2/00(2006.01)I 主分类号 H01L41/00(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 康建忠
主权项 一种制造压电MEMS开关的方法,包括:在基板上形成牺牲层;在所述牺牲层之上形成第一电极层,并在所述第一电极层中形成通孔;在所述第一电极层之上形成退火的压电电介质层;在所述退火的压电电介质层之上形成第二电极层,并将所述第二电极层和所述退火的压电电介质层图案化以形成所述通孔到所述牺牲层的延伸;形成邻近所述第一电极层和所述第二电极层的射频信号线,而不在形成所述射频信号线后的工艺中使所述射频信号线受到高温;在所述第二电极层和所述射频信号线之上形成第一聚合物涂层;移除所述牺牲层;在所述第一聚合物涂层之上形成第二聚合物涂层;在所述第二聚合物涂层中形成接触;图案化所述第二聚合物涂层;形成图案化的电介质层,以将悬臂连接到所述接触,所述悬臂包括所述第一电极层、所述第二电极层和所述退火的压电电介质层;以及移除所述第二聚合物涂层,其中,所述牺牲层的移除包括:图案化和蚀刻所述第一聚合物涂层以移除覆盖所述通孔的聚合物,以及经由所述通孔移除所述牺牲层;其中,所述第二聚合物涂层的形成包括在从其移除所述牺牲层的空间中提供聚合物的结构支承。
地址 美国得克萨斯