特别用于应变或应力硅材料的刻蚀组合物、表征这种材料表面上的缺陷的方法，和用刻蚀组合物处理这种表面的工艺

摘要

本发明提供了一种适于处理各种含硅表面，包括在绝缘体表面上的应变硅以及应力硅表面的无铬刻蚀组合物。本发明的新型和独创的刻蚀组合物包含氢氟酸、硝酸、乙酸和优选为碘化钾的碱金属碘化物。

主权项

一种刻蚀组合物，优选为溶液，其包含HF、HNO3、乙酸和优选为碘化钾的碱金属碘化物，其中所述碱金属碘化物的量为1毫摩尔/100毫升以上。