| 发明名称 | 富含水的剥离和清洗制剂及其使用方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用以除去本体光致抗蚀剂、蚀刻后和灰化后的残留物、来自Al后端工艺互连结构的残留物以及污染物的富含水的制剂及其使用方法。该制剂包含：羟胺；含有烷基二羟基苯和羟基喹啉的混合物的缓蚀剂；链烷醇胺、水溶性溶剂或二者的组合；和至少50重量％的水。 | ||
| 申请公布号 | CN102004399A | 申请公布日期 | 2011.04.06 |
| 申请号 | CN201010269271.9 | 申请日期 | 2010.08.31 |
| 申请人 | 气体产品与化学公司 | 发明人 | M·B·拉奥;G·巴尼尔杰;T·M·韦德;Y-C·李;W·D·刘;A·吴 |
| 分类号 | G03F7/42(2006.01)I;C11D7/26(2006.01)I;C11D7/32(2006.01)I;C11D7/50(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 陈文平;徐志明 |
| 主权项 | 一种富含水的剥离和清洗制剂，包含：1重量％‑30重量％的选自羟胺、羟胺盐化合物及其混合物中的至少一种；0.1重量％‑5重量％的含有烷基二羟基苯和羟基喹啉的混合物的缓蚀剂；选自5重量％‑45重量％的可与所述羟胺混溶的链烷醇胺、5重量％‑45重量％的水溶性溶剂及其组合中的一种组分；和至少50重量％的水。 | ||
| 地址 | 美国宾夕法尼亚州 | ||