正型抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法

摘要

一种正型抗蚀剂组合物，其中含有树脂成分(A)、以及可通过曝光产生酸的酸发生剂成分(B)；上述酸发生剂成分(B)含有由下述通式(B1)表示的酸发生剂(B1)：[式中，R⁵¹表示直链、支链或环状的烷基、或者直链、支链或环状的氟代烷基；R⁵²为氢原子、羟基、卤素原子、直链、支链或环状的烷基、直链或支链状的卤代烷基、或者直链或支链状的烷氧基；R⁵³为可具有取代基的芳基；n为1～3的整数]。

主权项

1.一种ArF准分子激光器用正型抗蚀剂组合物，其中含有一种具有酸离解性溶解抑制基、且可通过酸的作用使碱可溶性增大的树脂成分(A)，以及可通过曝光产生酸的酸发生剂成分(B)；上述树脂成分(A)含有由具有酸离解性溶解抑制基的丙烯酸酯衍生而来的构成单元(a1)、由具有含内酯的单环或者多环式基团的丙烯酸酯衍生而来的构成单元(a2)、和由含有含极性基团的脂肪族烃基的丙烯酸酯衍生而来的构成单元(a3)，上述酸发生剂成分(B)含有由下述通式(B1)表示的酸发生剂B1：【化1】式中，R⁵¹表示直链、支链或环状的烷基、或者直链、支链或环状的氟代烷基；R⁵²为氢原子、羟基、卤素原子、直链、支链或环状的烷基、直链或支链状的卤代烷基、或者直链或支链状的烷氧基；R⁵³为可具有取代基的芳基；n为1～3的整数，上述酸发生剂成分(B)还含有上述酸发生剂B1成分以外的酸发生剂B2，并且上述酸发生剂B2含有由下述式(b-1)或(b-2)表示的鎓盐(B2-1)和具有由下述通式(b-3)或者(b-4)表示的阴离子部分的鎓盐(B2-2)，式中，R¹”～R³”、R⁵”～R⁶”各自独立地表示芳基或者烷基；R⁴”表示直链、支链或环状的烷基、或者氟代烷基；R¹”～R³”中的至少1个表示芳基，R⁵”～R⁶”中的至少1个表示芳基，【化30】式中，X”表示至少1个氢原子被氟原子取代的碳数2～6的亚烷基；Y”、Z”各自独立地表示至少1个氢原子被氟原子取代的碳数1～10的烷基。