| 发明名称 | 图像形成装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种图像形成装置，该图像形成装置包括：图像载体；潜像形成装置；显影装置；潜像形成装置接触/分离机构；以及显影装置接触/分离机构，在所述显影装置移动到显影装置接触位置的状态下，所述潜像形成装置接触/分离机构允许所述潜像形成装置移动到潜像形成装置接触位置。 | ||
| 申请公布号 | CN101373358B | 申请公布日期 | 2011.04.06 |
| 申请号 | CN200810097950.5 | 申请日期 | 2008.05.16 |
| 申请人 | 富士施乐株式会社 | 发明人 | 鲛岛淳一郎;积田敏和;大越竹士 |
| 分类号 | G03G15/04(2006.01)I;G03G15/08(2006.01)I;G03G15/01(2006.01)I | 主分类号 | G03G15/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 顾红霞;龙涛峰 |
| 主权项 | 一种图像形成装置，包括：图像载体；潜像形成装置，其在所述图像载体的表面形成潜像；显影装置，其对所述图像载体的表面上的潜像进行显影；潜像形成装置接触/分离机构，其在所述潜像形成装置的一部分与所述图像载体的一部分相接触的潜像形成装置接触位置和所述潜像形成装置与所述图像载体分离的潜像形成装置分离位置之间移动所述潜像形成装置；以及显影装置接触/分离机构，其在所述显影装置的一部分与所述图像载体的一部分相接触的显影装置接触位置和所述显影装置与所述图像载体分离的显影装置分离位置之间移动所述显影装置，其中，所述潜像形成装置接触/分离机构执行下述(i)和(ii)：(i)在所述显影装置移动到所述显影装置接触位置的状态下，所述潜像形成装置接触/分离机构允许所述潜像形成装置移动到所述潜像形成装置接触位置；以及(ii)在所述显影装置移动到所述显影装置分离位置的状态下，所述潜像形成装置接触/分离机构限制所述潜像形成装置移动到所述潜像形成装置接触位置。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||