发明名称 |
离子注入方法及设备 |
摘要 |
本发明提供了一种离子注入方法及设备。使用离子束的束电流、到基板的剂量、以及被设置为1的基板的扫描次数的初始值,计算基板的扫描速度。如果扫描速度处于范围之内,则将当前的扫描次数和当前的扫描速度分别设置为实际的扫描次数和实际的扫描速度。如果扫描速度高于范围的上限,则中断计算处理。如果扫描速度低于范围的下限,则以1递增扫描次数以计算校正的扫描次数。通过使用校正的扫描次数等等计算校正的扫描速度。重复以上步骤直到校正的扫描速度处于容许的扫描速度范围之内。 |
申请公布号 |
CN101510506B |
申请公布日期 |
2011.04.06 |
申请号 |
CN200910004114.2 |
申请日期 |
2009.02.12 |
申请人 |
日新离子机器株式会社 |
发明人 |
日野雅泰 |
分类号 |
H01L21/265(2006.01)I;H01J37/317(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/265(2006.01)I |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 |
代理人 |
孙志湧;穆德骏 |
主权项 |
一种离子注入方法,其利用带状离子束和在与离子束的主面交叉的方向上对基板的机械扫描将离子注入基板,其中在所述离子束中,在执行或者不执行X方向的电扫描的情况下,X方向上的尺寸都大于与X方向正交的Y方向上的尺寸,所述方法包括:扫描速度计算步骤:将基板的扫描次数的初始值设置为1,并且通过利用离子束的束电流、到基板的剂量以及基板的扫描次数的初始值计算基板的扫描速度;扫描速度确定步骤:确定基板的扫描速度是否处于预定的容许的扫描速度范围之内;如果扫描速度处于容许的扫描速度范围之内,则将当前的扫描次数和当前的扫描速度分别设置为实际的扫描次数和实际的扫描速度;如果扫描速度高于容许的扫描速度范围的上限,则中断获得实际的扫描次数和实际的扫描速度的处理;并且,如果扫描速度低于容许的扫描速度范围的下限,则以1递增扫描次数以计算校正的扫描次数;校正的扫描速度计算步骤:当计算校正的扫描次数时,通过利用校正的扫描次数、束电流以及剂量计算校正的扫描速度;重复步骤:当计算校正的扫描速度时,对校正的扫描速度执行所述扫描速度确定步骤的处理,并且重复所述扫描速度确定步骤和所述校正的扫描速度计算步骤直到校正的扫描速度处于容许的扫描速度范围之内;和离子注入步骤:根据实际的扫描次数和实际的扫描速度将离子注入基板。 |
地址 |
日本京都 |