发明名称 |
在蚀刻层中提供特征的方法 |
摘要 |
提供一种用于在蚀刻层提供特征的方法。在蚀刻层上提供具有牺牲特征的图案化牺牲层。在该牺牲特征内形成共形侧壁,其包括至少两个侧壁形成工艺循环,其中每个循环包括侧壁沉积阶段和侧壁轮廓成形阶段。将共形侧壁之间的图案化牺牲层部分去除,留下其间具有间隙的共形侧壁,在该间隙的图案化牺牲层部分被选择性去除。使用该共形侧壁作为蚀刻掩膜在该蚀刻层蚀刻特征,其中穿过共形侧壁之间的间隙在蚀刻层中蚀刻特征,在该间隙的该图案化牺牲层部分被选择性去除。 |
申请公布号 |
CN101496141B |
申请公布日期 |
2011.04.06 |
申请号 |
CN200780026262.3 |
申请日期 |
2007.04.30 |
申请人 |
朗姆研究公司 |
发明人 |
黄志松;杰弗里·马克斯;S·M·列扎·萨贾迪 |
分类号 |
H01L21/033(2006.01)I;H01L21/308(2006.01)I;H01L21/311(2006.01)I;H01L21/3213(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/033(2006.01)I |
代理机构 |
上海胜康律师事务所 31263 |
代理人 |
周文强;李献忠 |
主权项 |
一种在蚀刻层中提供特征的方法,包括:在蚀刻层上形成具有牺牲特征的图案化牺牲层;在牺牲特征中形成共形侧壁,包括至少两个侧壁形成工艺循环,其中每个循环包括:侧壁沉积阶段;和侧壁轮廓成形阶段;选择性去除介于共形侧壁间的部分图案化牺牲层,在该共形侧壁间图案化牺牲层部分被选择性去除之处给该共形侧壁留下间隙;以及用共形侧壁作为蚀刻掩膜在蚀刻层中蚀刻特征,其中穿过共形侧壁之间的间隙在该蚀刻层中蚀刻特征,该间隙处的图案化牺牲层部分被选择性去除。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |