| 主权项 |
一种蒸镀装置，包含：复数个蒸发源；一旋转部件，适以旋转该复数个蒸发源；及一镀层阻断板，适以于任何时间阻断除了该复数个蒸发源其中之一之外的所有该复数个蒸发源；其中该复数个蒸发源之各者系包含一箱体、配置于该箱体之内的一熔解锅、配置于该熔解锅之内的一蒸发材料、配置在该熔解锅之外且适以加热及蒸发该蒸发材料之一加热装置、与适以阻止由该加热装置所产生的热量转移至外侧之一冷却装置，并藉至少一个反射器阻断自该加热装置产生的热量，进而防止所产生的热量转移至附近的蒸发源；同时，该冷却装置具有冷却水，其中该箱体系具有一双重结构，其包含一内壁、外壁、与介于该内壁与外壁之间的一闭合空间，该箱体系适以供应及排放冷却水进出该闭合空间，因此藉控制蒸发源之旋转以及将主要加热之位置定位于靠近该先行加热之位置，进而改善先行加热之效率。如申请专利范围第1项之蒸镀装置，其中，该冷却装置系包含至少一个反射器，该至少一个反射器系适以覆盖该加热装置。如申请专利范围第1项之蒸镀装置，更包含：上与下阻断部件，其分别为配置在该内壁与外壁之上与下部，该上与下阻断部件系适以关闭该闭合空间。如申请专利范围第1项之蒸镀装置，其中，供应管与排放管系分别配置在该外壁之上与下部。如申请专利范围第4项之蒸镀装置，更包含：配置于该闭合空间之内且适以隔离该供应管与排放管之一间壁，该间壁系配置为靠近该供应管与排放管之各者。如申请专利范围第4项之蒸镀装置，其中，该供应管与排放管系分别配置在该外壁之上与下部，且该供应管与排放管系配置为彼此对称于该箱体。如申请专利范围第1项之蒸镀装置，更包含：至少一个冷却感应管，配置于该闭合空间之内且于该供应管与排放管之间。如申请专利范围第3项之蒸镀装置，更包含：一冷却盖，适以阻断打开于该熔解锅与箱体之间的冷却源之一上部，该冷却盖系由该箱体所支撑且延伸至该熔解锅。如申请专利范围第1项之蒸镀装置，其中，该旋转部件系适以旋转该复数个蒸发源，各个加热装置系包含适用于一主要加热以蒸发的一第一加热装置、与适用于一先行加热之一第二加热装置。如申请专利范围第1项之蒸镀装置，其中，该冷却装置系配置于该加热装置之外侧。如申请专利范围第10项之蒸镀装置，其中，该冷却装置系包含至少一个反射器，其适以反射由该加热装置所产生且行进于该冷却装置之方向的热量。如申请专利范围第10项之蒸镀装置，其中，该冷却装置系包含一第一反射器、与配置在第一反射器之外的一第二反射器，第一反射器与第二反射器之各者系适以反射由该加热装置所产生且行进于该冷却装置之方向的热量。如申请专利范围第10项之蒸镀装置，其中，该冷却装置系包含填充冷却水且配置在该加热装置之外的一闭合空间。如申请专利范围第11项之蒸镀装置，其中，该冷却装置系包含填充冷却水且配置在该加热装置之外的一闭合空间。如申请专利范围第13项之蒸镀装置，更包含：一供水管与一排水管，其连接至该闭合空间且适以递送冷却水及从该闭合空间移除冷却水。一种用于控制蒸镀装置之方法，包含：提供一种蒸镀装置，其包含复数个蒸发源、适以旋转该复数个蒸发源之一旋转部件、及适以于任何时间阻断除了该复数个蒸发源其中之一之外的所有该复数个蒸发源之一镀层阻断板，该复数个蒸发源之各者系包含一箱体、配置于该箱体之内的一熔解锅、配置于该熔解锅之内的一蒸发材料、配置在该熔解锅之外且适以加热及蒸发该蒸发材料之一加热装置、与适以阻止由该加热装置所产生的热量转移至外侧之一冷却装置，并藉至少一个反射器阻断自该加热装置产生的热量，进而防止所产生的热量转移至附近的蒸发源；同时，该冷却装置具有冷却水，其中该箱体系具有一双重结构，其包含一内壁、外壁、与介于该内壁与外壁之间的一闭合空间，该箱体系适以供应及排放冷却水进出该闭合空间，加热未由该镀层阻断板所阻断之该复数个蒸发源的该其中之一，而且先行加热该复数个蒸发源的一相邻者；旋转该复数个蒸发源为一角度θ，使得该复数个蒸发源之该相邻者系不再为由该镀层阻断板所阻断，该角度θ系等于=360°×((t-1)/s)，其中，t与s系满足0<((t-1)/s)≦1.0，且s系蒸发源之总数目，t系一自然数，360°系当第n个蒸发源为旋转一次时所得到之角度；因此藉控制蒸发源之旋转以及将主要加热之位置定位于靠近该先行加热之位置，进而改善先行加热之效率。如申请专利范围第16项之方法，其中，s≧2。如申请专利范围第16项之方法，其中，1<t≦s。如申请专利范围第16项之方法，其中，于该等蒸发源之间，第n个蒸发源系由第一加热装置所加热，且第(n-1)个蒸发源系由第二加热装置所加热。 |
