| 摘要 |
La présente invention concerne un procédé permettant de réaliser un revêtement à base de deux composés organiques semi-conducteur C et C , respectivement de type P et de type N, C étant immiscible au composé C dans le revêtement réalisé, et où : (A) on dépose sur la surface du support une solution comprenant les composés C et C dans un milieu solvant S capable de solvater les composés C et C sans réagir chimiquement avec ceux-ci, ledit solvant S étant constitué par un mélange de : - une première fraction constituée d'un solvant ou mélange de solvants S1 capable de solvater les deux composés C ou C ; et - une seconde fraction, miscible à la première fraction, constituée d'un solvant ou mélange de solvants S2 qui a un point d'ébullition supérieur à celui du solvant ou mélange de solvants S1 et qui est capable de solvater sélectivement un des composés C ou C mais non l'autre ; et (B) on élimine par évaporation le solvant S présent dans le dépôt ainsi réalisé. |
