发明名称 Beleuchtungsoptik für die Mikrolithographie
摘要 Beleuchtungsoptik mit einem Kollektorspiegel, der eine Polarisationsverteilung erzeugt, mit der das erste facettierte optische Element während des Betriebs der Beleuchtungsoptik beaufschlagt wird, wobei es mindestens zwei erste Facettenelemente gibt, die mit Strahlung unterschiedlicher Polarisation beaufschlagt werden und weiterhin das erste facettierte optische Element mindestens einen ersten Zustand aufweist, in dem die Normalenvektoren der reflektiven Flächen der ersten Facettenelemente derart ausgewählt sind, dass sich während des Betriebs der Beleuchtungsoptik am Ort des Objektfeldes eine erste vorbestimmte Polarisationsverteilung ergibt.
申请公布号 DE102009045135(A1) 申请公布日期 2011.03.31
申请号 DE20091045135 申请日期 2009.09.30
申请人 CARL ZEISS SMT GMBH 发明人 FIOLKA, DAMIAN;STUETZLE, RALF
分类号 G03F7/20;G02B17/06 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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