| 发明名称 | 用于金属基底的半水性剥离和清洁制剂及其使用方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于金属基底的半水性剥离和清洁制剂及其使用方法，以除去整体光致抗蚀剂、蚀刻后和灰化后的残留物以及污染物。该制剂包括：链烷醇胺、水可混溶的有机共溶剂、季铵化合物、非游离酸官能团缓蚀剂，以及剩余物水。pH大于9。 | ||
| 申请公布号 | CN101993797A | 申请公布日期 | 2011.03.30 |
| 申请号 | CN201010246319.4 | 申请日期 | 2010.08.04 |
| 申请人 | 气体产品与化学公司 | 发明人 | M·I·埃格贝 |
| 分类号 | C11D7/32(2006.01)I;C11D7/26(2006.01)I;H01L21/3105(2006.01)I;G03F7/42(2006.01)I | 主分类号 | C11D7/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 陈文平 |
| 主权项 | 一种半水性剥离和清洁制剂，包括：a.链烷醇胺；b.水可混溶的有机共溶剂；c.季铵化合物；d.非游离酸官能团缓蚀剂；和e.水；其中所述制剂的pH大于9。 | ||
| 地址 | 美国宾夕法尼亚州 | ||