| 发明名称 | 一种光瞳测量装置及图像处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明提出一种光瞳测量装置，包括：傅里叶透镜；进光孔，位于所述傅里叶透镜一侧的焦面上；电荷耦合器件，位于所述傅里叶透镜另一侧的焦面上；图像处理系统，和所述电荷耦合器件相连，本发明提供一种光刻曝光系统光瞳测量装置，可以在线的测量照明光瞳的光瞳质量，并可以利用光瞳的形貌诊断光学系统的设计质量和装调误差。 | ||
| 申请公布号 | CN101487987B | 申请公布日期 | 2011.03.30 |
| 申请号 | CN200910046820.3 | 申请日期 | 2009.02.27 |
| 申请人 | 上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 郭勇 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B27/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种光瞳测量装置，其特征在于包括：傅里叶透镜；进光孔，位于所述傅里叶透镜一侧的焦面上；电荷耦合器件，位于所述傅里叶透镜另一侧的焦面上；图像处理系统，和所述电荷耦合器件相连；所述光瞳测量装置在光路方向上放置于一投影物镜的一侧，所述投影物镜的另一侧放置一掩膜板。 | ||
| 地址 | 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号 | ||