发明名称 Improved magnetron sputtering system for large-area substrates
摘要
申请公布号 EP1746181(A3) 申请公布日期 2011.03.30
申请号 EP20050027110 申请日期 2005.12.12
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 WHITE, JOHN;HOSOKAWA, AKIHIRO;LE, HIENMINH H.;INAGAWA, MAKOTO
分类号 C23C14/35;H01J37/34 主分类号 C23C14/35
代理机构 代理人
主权项
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