发明名称 基板的处理设备,尤指基板的电镀设备
摘要 电镀设备(11)的接触装置具有带一个连续的刚性外侧(26,27)的接触辊(20),该刚性外侧与一套筒段(22)连接。套筒段(22)具有一个比旋转轴(30)大的内孔(23),接触辊支承在该轴上。所以接触辊(20)在径向内一定的活动性,并通过弹簧(32)实现电接触和基本位置的锁定。通过这种活动性,保证了用相当小的压紧力即可达到在基板上的良好接触,即使基板存在不平度。
申请公布号 CN101310046B 申请公布日期 2011.03.30
申请号 CN200680028223.2 申请日期 2006.08.03
申请人 吉布尔·施密德有限责任公司 发明人 H·卡普勒
分类号 C25D7/06(2006.01)I;C25D17/00(2006.01)I 主分类号 C25D7/06(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 曹若
主权项 扁材的处理设备,在传送轨道上通过具有处理介质(14)的处理槽(12)进行所述处理,该设备包括运送扁材通过处理槽(12)的运送装置(18)和用于使导体装置(21)电接触到扁材上的接触装置(20),其中该接触装置具有刚性的和封闭的连续表面(27),以便抵靠在扁材(16)上,以及具有刚性的支承环(22),其中该表面(27)安置在支承环(22)上或由该支承环构成,其特征为,所述支承环(22)具有贯通的内孔(23),其净宽超过轴(30)的直径,在该轴上保持着所述至少一个接触装置,其中设置从所述表面(27)向所述导体装置(21)的柔性的永久的电接触(32)。
地址 德国弗罗伊登斯塔特