非接触漫射固化曝光的系统、方法和装置

摘要

本发明涉及非接触漫射固化曝光的系统、方法和装置。一种纳米压印配置，包括UV光漫射器，其使准直UV光束随机化从而减弱来自位于UV光学路径中的缺陷物的遮蔽效应。另外，组合中心圆垫和外环形垫形成两个垫片之间的环形“非接触”区域。设计两个垫组合的尺寸和形状从而避免该盘基板上图案化压印区域之上的直接凝胶垫接触。凝胶垫、非接触配置的目的在于消除沿负载柱产生的任何可能的表面形变，且由此避免任何形变弹性传播到压模抗蚀剂表面。

主权项

一种压印装置，包括：具有开口的膜支承件；膜，安装到该膜支承件使得该膜跨该膜支承件中的开口延伸且密封；板，与所述膜相邻以用于允许至少一些UV光穿过它，该板具有轴且该板沿径向延伸；凝胶垫，安装到该板；压模，安装到该凝胶垫；母模，与所述压模相邻且位于所述压模的与所述凝胶垫相反的一侧，且具有带压印特征的接触表面；以及UV束漫射器，与所述膜相邻且位于所述膜的与所述板相反的一侧，以用于将准直UV入射束漫射成随机化的UV入射束。