发明名称 具有抗干涉条纹结构的辉度增强光学基底
摘要 本发明涉及一种具有结构化光输出面的光学基底,该输出面包括多行横向布置的蛇形、波状或弯曲的纵向棱柱结构。光输出面的棱柱结构可呈现为包括多行横向弯曲的纵向棱柱、和/或端对端结合以形成整体弯曲纵向棱柱结构的曲段部分。纵向棱柱结构的横向弯曲行布置成横向平行(并排),限定出平行的峰谷(在各相邻峰谷之间限定出小平面)。在一个实施例中,横向波纹是规则的,具有恒定或可变的波长和/或波幅(或横向变形程度)。横向波纹可大致呈正弦曲线等弯曲轮廓。结构化光输出面还可包括沿各波状棱柱结构的发生变化的峰高、和/或预定的结构不规则部,例如分布在结构化表面中的非小平面平坦部。
申请公布号 CN101995601A 申请公布日期 2011.03.30
申请号 CN201010272634.4 申请日期 2010.08.11
申请人 友辉光电股份有限公司 发明人 王康华;王凯俊;叶芳君
分类号 G02B6/00(2006.01)I;G02B5/02(2006.01)I;G02B5/04(2006.01)I;G02F1/13357(2006.01)I 主分类号 G02B6/00(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 马高平
主权项 一种光学基底,包括:基底;位于基底一侧的光输入面;和结构化的光输出面,位于基底另一侧,并包括多行横向布置的纵向棱柱结构,其中,棱柱结构包括横向变形部分。
地址 中国台湾台北市