发明名称 |
一种用二次模板法制备AlN纳米线宏观有序阵列的方法 |
摘要 |
一种用二次模板法制备AlN纳米线宏观有序阵列的方法,包括:对Si基片进行亲水性处理;在Si基板上沉积一层单层有序的PS球阵列;制备金属颗粒模板;制备AlN纳米线宏观阵列。本发明的目的是针对常规制备氮化铝纳米线宏观阵列技术的不足,提供一种用二次模板法制备AlN纳米线宏观有序阵列的方法,通过调节各过程工作参数有效控制纳米线宏观阵列的尺寸、形貌及纳米线的均匀度和长度。 |
申请公布号 |
CN101993050A |
申请公布日期 |
2011.03.30 |
申请号 |
CN201010568524.2 |
申请日期 |
2010.12.01 |
申请人 |
沈阳工业大学 |
发明人 |
李志杰;田鸣;贺连龙 |
分类号 |
C01B21/072(2006.01)I |
主分类号 |
C01B21/072(2006.01)I |
代理机构 |
沈阳智龙专利事务所(普通合伙) 21115 |
代理人 |
宋铁军 |
主权项 |
一种用二次模板法制备AlN纳米线宏观有序阵列的方法,其特征在于:所述方法包括以下步骤:(1)对Si基片进行亲水性处理,即把Si基片放入用浓硫酸与H2O2按体积比1:2‑1:3混合的溶液中浸泡2‑4小时,用无水乙醇洗涤,再浸入浓度99.7%的异丙醇溶液中用超声波处理30‑50分钟,取出后风干,得到亲水处理后的Si基片;把大小为300‑500nm、浓度为0.1%的PS球溶液用水和酒精调成浓度为0.05%的PS溶液,水和酒精体积的比为7:3,注入小烧瓶,把已进行亲水性处理过Si基片与竖直成5°角放入烧瓶中,在温度30‑60℃、湿度50‑75条件下蒸发,蒸发过程中取出用超声波振荡5‑15min,蒸发24‑48h后,将在Si基板上沉积一层单层有序的PS阵列;(2)利用高温电阻蒸发设备制备金属颗粒模板,将高纯铝块放置在已经固定好的钨舟上,然后将沉积一层单层有序的PS球的Si基模板固定在对应铝块正上方的挡板上,依次打开机械泵和分子泵抽至3×10‑3Pa的真空度,关闭分子泵和机械泵,充入50‑200torr Ar工作气体;调节二次电流强度升至设定值150‑250A,使金属铝蒸发,当升烟稳定时,将挡板移开,金属纳米粉体蒸发到Si基板上,6‑15s再将挡板移回,放入微量的空气进行1‑2h钝化;将冷却好的物质放入高温烧结炉中,抽真空到0.1Pa,将烧结炉缓慢升温至500‑800℃,并保持1‑5h,待其自然冷却到室温,制得金属颗粒模板;(3)利用化学气相沉积法(CVD)制备AlN纳米线宏观阵列,首先对管式烧结炉进行清理和擦拭;把中央内套管连续放在加热管的中心,将装有高纯铝条的刚玉瓷舟放在中央内套管上,在距中央15‑20cm处把已经制备好的金属颗粒模板放在其中;开启机械泵将加热管内部抽至0.1Pa,在流速为100‑200sccm的Ar气保护下,以40℃/min的升温速率将加热管升温到500‑600℃,再充入气压为300‑500torr流速为50sccm的N2气,以20℃/min的升温速率加热到1100‑1300℃,在此温度恒温120 min后,在流速为50sccm 的流动N2气条件下,水平电炉自然冷却至室温,制成AlN纳米线宏观阵列。 |
地址 |
110870 辽宁省沈阳市经济技术开发区沈辽西路111号 |