| 发明名称 | 用于光刻衬底的温度控制方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于处理光刻衬底的方法，包括将光刻衬底放置在腔中的支撑构件上，其中，所述光刻衬底具有大约0摄氏度到大约50摄氏度的初始温度。将热传递流体引入到所述腔中以将所述光刻衬底冷却至大约0摄氏度到大约负40摄氏度的目标温度。在被冷却的光刻衬底的温度达到初始温度之前，对该被冷却的光刻衬底执行等离子体工艺。 | ||
| 申请公布号 | CN101461031B | 申请公布日期 | 2011.03.30 |
| 申请号 | CN200780020946.2 | 申请日期 | 2007.06.01 |
| 申请人 | 奥立孔美国公司 | 发明人 | 贾森·普卢姆霍夫;拉里·瑞安;约翰·诺兰;大卫·约翰逊;鲁塞尔·韦斯特曼 |
| 分类号 | G03F1/08(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 安翔;林月俊 |
| 主权项 | 一种用于处理光刻衬底的方法，包括：将所述光刻衬底放置在腔中的支撑构件上，所述光刻衬底具有初始温度；将热传递流体引入到所述腔中；通过所述热传递流体将所述光刻衬底冷却到目标温度；排空所述腔；以及在所述被冷却的光刻衬底的温度达到所述初始温度之前，对所述被冷却的光刻衬底执行等离子体工艺。 | ||
| 地址 | 美国佛罗里达州 | ||