发明名称 一种二维光谱测量装置
摘要 本实用新型公开了一种二维光谱测量装置,包括机壳,被测二维目标的被测量光束从镜头进入机壳内,并分别被机壳内的观察器和光谱仪接收;观察器用来对准被测目标和/或测量被测目标的图像亮度信息,光谱仪由狭缝、色散部件和二维多通道探测器组成,一次测量能够得到某一行/列中各点的光谱分布;在机壳内或者在机壳上设置扫描机构,使狭缝与被测二维目标像面产生相对位移,扫描机构和光谱仪相配合测得被测二维目标上各点的光谱分布、亮度、颜色等详尽光学参数;本实用新型操作简便、快速,重复性好,测量精度高,可测量参数齐全。
申请公布号 CN201780164U 申请公布日期 2011.03.30
申请号 CN201020275397.2 申请日期 2010.07.29
申请人 杭州远方光电信息股份有限公司 发明人 潘建根
分类号 G01J3/28(2006.01)I;G01J3/06(2006.01)I;G01J3/04(2006.01)I;G01J3/46(2006.01)I 主分类号 G01J3/28(2006.01)I
代理机构 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人 林宝堂
主权项 一种二维光谱测量装置,包括机壳(1),在机壳(1)上设置镜头(2),被测二维目标(20)所发出的被测光束从镜头(2)进入机壳(1),并成像于机壳(1)内,其特征在于:在机壳(1)内设置观察器(3)和由狭缝(4)、色散部件(5)和二维多通道探测器(6)组成的光谱仪(7);从镜头(2)出射的光被所述的狭缝(4)或者镜头(2)后的光路上的分光器(11)分成至少两路,其中一路光束穿过狭缝(4)进入光谱仪(7),另一路光束进入观察器(3);狭缝(4)位于被测二维目标(20)的像面位置,在机壳(1)内或者在机壳(1)上设置使狭缝(4)与被测二维目标(20)像面产生相对位移的扫描机构(8)。
地址 310053 浙江省杭州市滨江区滨康路669号