发明名称 | 膜厚度测量设备 | ||
摘要 | 一种膜厚度测量设备可包括:光谱获取单元,其将光照射到测量目标膜上并获取反射光或透射光的光谱;功率谱计算单元,其计算功率谱;膜厚度计算单元,其检测功率谱的峰值位置并计算膜的厚度;测量质量计算单元,其计算厚度的测量质量;测量质量确定单元,其确定厚度是有效还是无效;以及膜厚度输出单元,如果测量质量确定单元确定厚度有效则输出厚度。 | ||
申请公布号 | CN101995225A | 申请公布日期 | 2011.03.30 |
申请号 | CN201010257722.7 | 申请日期 | 2010.08.16 |
申请人 | 横河电机株式会社 | 发明人 | 西田和史 |
分类号 | G01B11/06(2006.01)I | 主分类号 | G01B11/06(2006.01)I |
代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 陈源;张天舒 |
主权项 | 一种膜厚度测量设备,包括:光谱获取单元,其将光照射到测量目标膜上,该光谱获取单元获取由测量目标膜所反射的反射光和透射通过测量目标膜的透射光中的至少一个的光谱;功率谱计算单元,其接收光谱来计算功率谱;膜厚度计算单元,其接收功率谱来检测功率谱的峰值位置,该膜厚度计算单元根据峰值位置来计算测量目标膜的厚度;测量质量计算单元,其计算厚度的测量质量;测量质量确定单元,其接收测量质量,该测量质量确定单元根据测量质量和阈值来确定厚度是有效还是无效;以及膜厚度输出单元,其接收厚度,如果测量质量确定单元确定厚度有效则该膜厚度输出单元输出厚度。 | ||
地址 | 日本东京 |