发明名称 | 用于印版的曝光装置 | ||
摘要 | 涉及一种具有光源(2)、光调制器(4)和光耦合单元(3)的曝光装置,其中在曝光要曝光的材料所需频谱范围内的射线强度以特别简单和低成本的方式被优化,本发明建议,光源(2)包括至少一个激光二极管(7)。 | ||
申请公布号 | CN101171548B | 申请公布日期 | 2011.03.30 |
申请号 | CN200680015628.2 | 申请日期 | 2006.03.31 |
申请人 | 赛康IP有限责任公司 | 发明人 | 萨斯查·纳伯尔;约翰·海德 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 吴丽丽 |
主权项 | 一种曝光装置(1),具有光源(2)、具有多个由用于调制光的光电元件(28)构成的行的光调制器(4)、用于在光调制器(4)上对数据图样进行成像的装置、用于在光敏感材料(25)上对光调制器(4)进行成像的装置、用于在光调制器(4)和光敏感材料(25)之间产生相对运动的装置,其中所述相对运动基本上垂直于由调制光的光电元件(28)构成的行来进行,以及用于卷动一个显示在光调制器(4)的一个给定行上的数据图样使其通过光调制器(4)的不同行的装置,其中所述卷动与相对运动同步进行,使得显示在光调制器(4)上的数据图样在光敏感材料(25)上的成像对于光敏感材料(25)而言是基本上固定的,其中设置了一个用于使光调制器(4)的可预定数量的行无效的装置(30),并且光调制器(4)能够通过只向激活行传送数据图样而工作,其特征在于,所述光源被固定地安装在曝光头外部,所述用于无效的装置(30)被设计成用来使一个可预定的并被设计成可移位的行连续区域无效。 | ||
地址 | 荷兰埃德 |