摘要 |
Procedimiento para la obtención de una capa (110) que presenta nanopartículas (40) sobre un substrato - liberándose nanopartículas (40) en una primera cámara de proceso (10), y generándose una corriente de nanopartículas (50), - conduciéndose la corriente de nanopartículas (50) a una segunda cámara de proceso (80), conduciéndose la corriente de nanopartículas lateralmente, en paralelo, sobre la superficie (120) del substrato (100) que se encuentra en la segunda cámara de proceso (80), y - precipitándose las nanopartículas (40) sobre el substrato (100) con la corriente de nanopartículas orientada de este modo a la segunda cámara de proceso (80), caracterizado porque - en la primera cámara de proceso se precipita adicionalmente sobre el substrato al menos otro material que forma, junto con las nanopartículas, la capa que presenta las nanopartículas, - conduciéndose el material adicional en forma de una corriente de material (150) sobre la superficie (120) del substrato (100), y - orientándose esta corriente de material (150) de tal manera que incide sobre la superficie del substrato (100) en un ángulo recto.
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申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
JABADO, RENE;KRUEGER, URSUS;KOERTVELYESSY, DANIEL;LUETHEN, VOLKMAR;REICHE, RALPH;RINDLER, MICHAEL |