发明名称 |
具有上部返回极优化以降低尾屏蔽件突出的磁写入头 |
摘要 |
本发明提供一种能够抑制写入极和尾屏蔽件突出的用于垂直磁记录的磁写入头。所述写入极包括与所述尾屏蔽件磁连接的磁返回极,所述返回极能够抵御由苏打喷射等机械磨蚀滑块清洁操作导致的形变或凹陷。 |
申请公布号 |
CN101246694B |
申请公布日期 |
2011.03.23 |
申请号 |
CN200810074303.2 |
申请日期 |
2008.02.15 |
申请人 |
日立环球储存科技荷兰有限公司 |
发明人 |
埃里克·W·弗林特;萧文千;李显邦;杨明宪 |
分类号 |
G11B5/31(2006.01)I;G11B5/127(2006.01)I |
主分类号 |
G11B5/31(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
张波 |
主权项 |
一种磁写入头,包括:具有朝向气垫面设置的末端的磁写入极;通过非磁性尾间隙与所述写入极隔开的尾屏蔽件,所述尾屏蔽件具有尾缘,并且具有暴露于所述气垫面处的前缘和与所述前缘相对的后缘,所述尾屏蔽件的前缘和后缘之间的距离定义尾屏蔽件的喉高;以及接触所述尾屏蔽件的所述后缘并具有一表面的非磁填充层,所述填充层的所述表面和所述尾屏蔽件的所述尾缘形成共平面表面;以及在一区域内与所述共平面表面接触的磁返回极,该区域的长度定义返回极喉高,所述返回极的喉高至少是所述尾屏蔽件的喉高的5倍。 |
地址 |
荷兰阿姆斯特丹 |