发明名称 |
光刻装置及器件制造方法 |
摘要 |
一种光刻投影装置,它具有带极化元件的照明系统。多个定向元件将入射束的不同子束反射到可调节的且独立可控的方向上。利用再定向光学器件,可在辐射束的横截面平面内产生任何所需要的极化空间强度分布。 |
申请公布号 |
CN101025573B |
申请公布日期 |
2011.03.23 |
申请号 |
CN200710005990.8 |
申请日期 |
2007.02.25 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
H·M·穆尔德;M·F·A·尤尔林斯 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王波波 |
主权项 |
一种光刻投影装置,包括:照明系统,包括:反射元件阵列,其按照照明模式来确定辐射束的强度分布,和极化元件,其在该辐射束路径上处于该反射元件阵列之前,该极化元件用于向该辐射束提供极化;支撑结构,用于支撑构图部件,该构图部件用于按照所需图案对该辐射束进行构图;基底台,用于保持基底;投影系统,用于将该图案化辐射束投影到该基底的靶部上,其中,该极化元件包含至少两个区域,第一区域与从该反射元件选出的第一组相关联,第二区域与从该反射元件选出的第二组相关联,该第一组不同于该第二组,并且,至少一个区域包含光学单元,以在通过该至少一个区域的一部分束中获得极化,由此,第一组和第二组反射元件选择成可获得一种极化照明模式。 |
地址 |
荷兰费尔德霍芬 |