发明名称 控制涂施设备的方法
摘要 本发明提供一种控制涂施设备的方法,所述方法包含:使用涂施构件在衬底上形成涂施材料图案;通过使用传感器将光照射到衬底来获得光点与涂施材料图案之间的距离相对于涂施构件的垂直位置的变化率;基于所获得的光点与涂施材料图案之间的距离相对于涂施构件的垂直位置的变化率,计算相对于既定在实际过程中使用的涂施构件的垂直位置的光点与涂施材料图案之间的距离值;将所计算的光点与涂施材料图案之间的距离值与预设距离值进行比较;以及基于比较结果,通过控制传感器与涂施构件之间的距离来控制光点与涂施材料图案之间的距离。可在无额外仪器的情况下测量光点与涂施材料图案之间的距离,且可改进测量所述距离的准确性。
申请公布号 CN101987317A 申请公布日期 2011.03.23
申请号 CN201010240769.2 申请日期 2010.07.28
申请人 AP系统股份有限公司 发明人 金光贤;申庆澈;成元珉;吴昇勋
分类号 B05B13/04(2006.01)I;B05B15/00(2006.01)I;G01B11/02(2006.01)I 主分类号 B05B13/04(2006.01)I
代理机构 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人 臧建明
主权项 一种控制涂施设备的方法,所述涂施设备包括用于将涂施材料涂施在衬底上的涂施构件以及包含用于测量所述衬底与所述涂施构件之间的距离的传感器的分配器,所述方法包括:使用所述涂施构件在所述衬底上形成涂施材料图案;通过使用所述传感器将光照射到所述衬底上来获得光点与所述涂施材料图案之间的距离相对于所述涂施构件的垂直位置的变化率;基于所述所获得的所述光点与所述涂施材料图案之间的所述距离相对于所述涂施构件的所述垂直位置的变化率,计算相对于既定在实际过程中使用的所述涂施构件的垂直位置的所述光点与所述涂施材料图案之间的距离值;将所述所计算的所述光点与所述涂施材料图案之间的距离值与预设距离值进行比较;以及基于比较结果,通过控制所述传感器与所述涂施构件之间的距离来控制所述光点与所述涂施材料图案之间的所述距离。
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