发明名称 立式热处理装置和使用该立式热处理装置的热处理方法
摘要 本发明提供一种立式热处理装置,其特征在于,具备:具有炉口的热处理炉;封闭上述热处理炉的炉口的盖体;通过保温筒载置在上述盖体上的,用于多层保持多个基板的第一和第二基板保持件;使上述盖体升降,将任何一个基板保持件搬入和搬出热处理炉内的升降机构;当一个基板保持件在上述热处理炉内时,为了移载基板,载置另一个基板保持件的保持件载置台;和在上述保持件载置台和上述保温筒之间进行各基板保持件的搬送的保持件搬送机构,其中,设置有用于以不翻到的方式把持基板保持件的保持件把持机构。
申请公布号 CN101252081B 申请公布日期 2011.03.23
申请号 CN200810009041.1 申请日期 2008.01.30
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 似鸟弘弥;菱谷克幸
分类号 H01L21/00(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;H01L21/324(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I;F27B17/00(2006.01)I;F27B5/06(2006.01)I;F27D5/00(2006.01)I;F27D3/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳
主权项 一种立式热处理装置,其特征在于:具有炉口的热处理炉;封闭所述热处理炉的炉口的盖体;通过保温筒载置在所述盖体上的,用于多层保持多个基板的第一和第二基板保持件;使所述盖体升降,将任何一个基板保持件搬入和搬出热处理炉内的升降机构;当一个基板保持件在所述热处理炉内时,为了移载基板而载置另一个基板保持件的保持件载置台;和在所述保持件载置台和所述保温筒之间进行各基板保持件的搬送的保持件搬送机构,其中,在所述保持件载置台上设置有用于为了不翻倒基板保持件而进行把持的保持件把持机构,基板保持件具有环状的底板,在该底板的内周上形成有定位接合槽,具有可使相互的间隔扩大和缩小的一对滚子的保持件定位机构被设置在保持件载置台上,所述保持件定位机构通过扩大所述一对滚子的间隔从而与所述定位接合槽接合,进行基板保持件的定位,所述保持件把持机构在所述一对滚子的上端部形成为凸缘状,在扩开所述一对滚子时,与所述底板的上面相对,将所述底板把持在与所述保持件载置台之间地把持所述底板的把持部。
地址 日本东京都