溅镀用磁控装置

摘要

本发明涉及一种溅镀用磁控装置，其包括多个磁性元件组、多个驱动装置及一个承载盘，所述承载盘用于承载磁性元件组及驱动装置，每个所述磁性元件组均包括多个磁性元件，每个磁性元件组中相邻的两个磁性元件的磁极相反设置，所述每个磁性元件组的多个磁性元件自承载盘的中心向承载盘的边缘线性排列，并且所述多个磁性元件组关于承载盘的中心呈辐射状设置，所述多个驱动装置与多个磁性元件组一一对应，每一驱动装置用于驱动一个磁性元件组沿着该磁性元件组的多个磁性元件所排列的方向移动，从而使得该磁性元件组的磁力线分布区域发生变化。

主权项

一种溅镀用磁控装置，其包括多个磁性元件组、多个驱动装置及一个承载盘，所述承载盘用于承载磁性元件组及驱动装置，每个所述磁性元件组均包括多个磁性元件，每个磁性元件组中相邻的两个磁性元件的磁极相反设置，所述每个磁性元件组的多个磁性元件自承载盘的中心向承载盘的边缘线性排列，并且所述多个磁性元件组关于承载盘的中心呈辐射状设置，所述多个驱动装置与多个磁性元件组一一对应，每一驱动装置用于驱动一个磁性元件组沿着该磁性元件组的多个磁性元件所排列的方向移动，从而使得该磁性元件组的磁力线分布区域发生变化。