发明名称 一种铜箔后处理系统中硅溶液回收装置
摘要 一种铜箔后处理系统中硅溶液回收装置,包括挤水辊和硅溶液回收单元,挤水辊用于设置在T7处理阶段的T7水洗槽与T8处理阶段T8处理槽之间的上导辊上方并偏于T7水洗槽侧的位置,挤水辊与T7水洗槽、T8处理槽之间上导辊的轴线平行,挤水辊与T7水洗槽、T8处理槽之间上导辊相对外壁之间的距离设置为铜箔的厚度;硅溶液回收单元用于回收硅溶液。采用挤水辊与T7水洗槽、T8处理槽之间的上导辊相配合,将铜箔从T7水洗槽带出的水分挤出并流入T7水洗槽内,防止进入T8处理步骤的铜箔带有过多的水分影响喷硅,此外,利用硅溶液回收单元可将铜箔经过T8处理槽内下导辊、烘箱前下导辊时流下的硅溶液直接回收到T8储液罐中。
申请公布号 CN201762473U 申请公布日期 2011.03.16
申请号 CN201020171674.5 申请日期 2010.04.27
申请人 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 发明人 何成群;薛宏伟;周晓波;赵原森;柴云;白忠波;龚密层;周永森;高青松
分类号 C25D21/16(2006.01)I 主分类号 C25D21/16(2006.01)I
代理机构 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 代理人 刘建芳;马柯柯
主权项 一种铜箔后处理系统中硅溶液回收装置,其特征在于:包括挤水辊和硅溶液回收单元,挤水辊用于设置在T7处理阶段的T7水洗槽与T8处理阶段T8处理槽之间的上导辊上方并偏于T7水洗槽侧的位置,挤水辊与T7水洗槽、T8处理槽之间上导辊的轴线平行,挤水辊与T7水洗槽、T8处理槽之间上导辊相对外壁之间的距离设置为铜箔的厚度;硅溶液回收单元用于设置于T8处理阶段T8处理槽内以及T8处理槽与烘箱之间。
地址 472500 河南省灵宝市黄河路131号